降低Low-E玻璃鋼化前后可見光透過率變化量的方法

        為了生產(chǎn)高質(zhì)量可鋼化Low-E玻璃，探討實(shí)驗(yàn)了在使用不同的硅鋁靶濺射功率時(shí)，如何選擇合適的工藝氣體流量和氬/氮?dú)獗壤共Ａт摶昂罂梢姽馔高^率的變化很小。

　　實(shí)驗(yàn)條件。生產(chǎn)工藝為在玻璃表面依次沉積氮化硅、鎳鉻、銀、鎳鉻、氮化硅，底層氮化硅使用2個(gè)旋轉(zhuǎn)陰極，頂層氮化硅使用3個(gè)旋轉(zhuǎn)陰極，采用中頻濺射電源；鎳鉻和銀均為4 kW，采用平面陰極，直流濺射電源。玻璃傳輸速度為4 m/min，本底真空為（1.2~2.4）×10-4 Pa。

　　首先探討Low-E玻璃鋼化前后可見光透過率變化量在硅鋁靶使用不同濺射功率和工藝氣體流量時(shí)的表現(xiàn)。本實(shí)驗(yàn)采用常用的單銀可鋼化Low-E玻璃生產(chǎn)工藝，每次只調(diào)節(jié)鍍膜前、后硅鋁靶的濺射功率和工藝氣體流量、比例。工藝氣體氬/氮?dú)獗壤謩e為60∶40、50∶50、40：60，具體實(shí)驗(yàn)結(jié)果見下列圖表。

　　圖1氬/氮?dú)獗壤秊?0∶40時(shí)Low-E玻璃鋼化前后可見光透過率變化量隨濺射功率變化曲線

　　圖2氬/氮?dú)獗壤秊?0∶50時(shí)Low-E玻璃鋼化前后可見光透過率變化量隨濺射功率變化曲線

　　圖3氬/氮?dú)獗壤秊?0∶60時(shí)Low-E玻璃鋼化前后可見光透過率變化量隨濺射功率變化曲線

　　對(duì)比表1、表2和表3可以看出：①相同工藝氣體流量下，隨著氮?dú)獗壤奶岣撸桎X靶允許使用的濺射功率越高，說明氮?dú)饬髁孔銐蚋邥r(shí)，硅鋁靶才能穩(wěn)定地工作在高功率下。氮?dú)饬髁枯^高時(shí)，Low-E玻璃鋼化前后可見光透過率變化量增大。②氬/氮?dú)獗壤秊?0∶60時(shí)，Low-E玻璃鋼化前后可見光透過率變化量在各種流量下，普遍偏大，生產(chǎn)過程中不應(yīng)采用。對(duì)比圖1、圖2和圖3可以看出，圖1曲線相互交叉現(xiàn)象明顯比圖2、圖3要多很多，沒有規(guī)律可循，但變化量的幅度很小。

　　其次探討工藝氣體流量對(duì)Low-E玻璃鋼化前后可見光透過率變化量的影響，工藝氣體流量分別為800 mL/min、1 000 mL/min、1 200 mL/min、1 400 mL/min、1 600 mL/min，具體結(jié)果見下列圖表。

　　圖4流量為800 mL/min時(shí)Low-E玻璃鋼化前后透過率變化量隨濺射功率變化曲線

　　圖5流量為1 000 mL/min時(shí)Low-E玻璃鋼化前后可見光透過率變化量隨濺射功率變化曲線

　　圖6流量為1 200 mL/min時(shí)Low-E玻璃鋼化前后可見光透過率變化量隨濺射功率變化曲線

　　圖7流量為1 400 mL/min時(shí)Low-E玻璃鋼化前后可見光透過率變化量隨濺射功率變化曲線

　　圖8流量為1 600 mL/min時(shí)Low-E玻璃鋼化前后可見光透過率變化量隨濺射功率變化曲線

　　對(duì)照表4~表8可以看出，工藝氣體流量小，硅鋁靶射功率上不去，高功率必須配大流量，在大流量下使用小功率，Low-E玻璃鋼化前后可見光透過率變化量增大。對(duì)照?qǐng)D4~圖8可以看出，工藝氣體流量越大，Low-E玻璃鋼化前后可見光透過率變化量的變化幅度越大。主要表現(xiàn)在大流量配低功率時(shí)，可見光透過率變化量的差值急劇增加，說明大流量配小功率，會(huì)使鋼化前后可見光透過率變化量明顯增大。

　　為了生產(chǎn)高質(zhì)量可鋼化Low-E玻璃，在使用不同的硅鋁靶濺射功率時(shí)，如何選擇優(yōu)的工藝氣體流量和氬/氮?dú)獗壤诓煌纳a(chǎn)線上的數(shù)據(jù)不盡相同，在不同的真空度下不盡相同，在靶材廠家、批次不同時(shí)也不盡相同。從實(shí)驗(yàn)分析可以看出，工藝氣體流量氬/氮?dú)獗壤x擇50:50時(shí)，在各個(gè)濺射功率下使用表現(xiàn)都很好，是很好的選擇。